曝光設備

"曝光設備"的搜尋結果

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• 產品名稱
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  產品名稱
  手動曝光設備 UX1
  產品描述
  搭載USHIO長年發展的光源及光學技術的Mask Aligner。可對應ihg波長及Deep UV波長領域的曝光裝置。
  主要應用/領域
  • 曝光
  • 液晶面板
  • MEMS/電子元件
  • 半導體
  • 電路基板/PKG
  波長
  • 365
  • 405
  • 436
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  產品名稱
  R t R投影曝光設備 UFX2
  產品描述
  對FINE PITCH TAB與COF基板，執行高精確度曝光的軟性印刷回路基板用投影曝光裝置。 透過為專業開發的高輸出燈以及運用獲得好評的光學技術設計的投影鏡片，達到效率高的高解析度。
  主要應用/領域
  • 曝光
  • MEMS/電子元件
  • 半導體
  • 液晶面板
  • 電路基板/PKG
  波長
  • 365
  • 405
  • 436
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  產品名稱
  Proximity 曝光機 UX3
  產品描述
  搭載USHIO長年發展的光源及光學技術的Mask Aligner。可對應ihg波長及Deep UV波長領域的曝光裝置。
  主要應用/領域
  • 曝光
  • MEMS/電子元件
  • 半導體
  • 液晶面板
  • 電路基板/PKG
  波長
  • 365
  • 405
  • 436
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  產品名稱
  投影鏡頭式一次性曝光設備 - UX4
  產品描述
  運用USHIO的光源・照明・光學・校正及搬運技術，實現高性能、高生產性(120WPH)、及低成本的電子零件用曝光裝置。
  主要應用/領域
  • 曝光
  • MEMS/電子元件
  • 半導體
  • 液晶面板
  • 電路基板/PKG
  波長
  • 365
  • 405
  • 436
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  產品名稱
  高密度IC載板用步進式投影曝光裝置 UX-5
  產品描述
  依照基板伸縮增建，達到多層類型的高精確度重疊。
  主要應用/領域
  • 曝光
  • 半導體
  • MEMS/電子元件
  • 液晶面板
  • 電路基板/PKG
  波長
  • 365
  • 405