搭載USHIO長年發展的光源及光學技術的Mask Aligner。可對應ihg波長及Deep UV波長領域的曝光裝置。
U 高解像力
亦最高解像力Line & Space = 1um(真空hard contact)。以下稱(L/S)
Proximity曝光、Print Gap 20um時,實現L/S 3um的高解像力。
此外工作臺面的高平坦性,良好的Gap安定性,也提供好的曝光線寬安定性表現。
U 實現高精度對位
重合精度:正面對位±1um、背面對位±1.5um。可對應各種基板材料(Silicon、GaAs、Sapphire、Crystal等)及各種對位靶點,提供最適當的照明及畫像處理軟體技術,實現高精度對位。
U LCD感光材料評估用設備
LCD的Color Filter曝光光源應用上,USHIO的光源技術擁有相當高的市佔率。利用此技術,可以提案簡易曝光裝置給LCD用感光材料來執行出貨檢查。