投影鏡頭式一次性曝光設備 - UX4|優志旺股份有限公司 USHIO TAIWAN, INC.

運用USHIO的光源・照明・光學・校正及搬運技術，
實現高性能、高生產性(120WPH)、及低成本的電子零件用曝光裝置。
具有適用於解析2umL/S～20umL/S、及曝光區域φ100～200mm的各種類型（單面/雙面、全部/部分等）。

諮詢商品

U 光罩無損害
採用光罩與工作件非接觸的「投影曝光方式」。遮罩是半永久使用，因此降低運轉成本、防止接線缺陷、並提升良品率。

U 獨特的回路比對方式校正
應用影像處理技術，以依回路比對方式的獨特校正機構。無須專用的校正記號，可依各種工作條件執行高精確度校正。

U 較深的焦點焦度
透過焦點深度較深（±50～100μm）的投影鏡片，即使是有高低差異的基板或厚膜電阻，亦能執行銳利的類型描繪之曝光。

U 適用各種作產品
矽晶圓、GaAs、水晶及玻璃基板，適用工作與應用軟體的搬運系統。

產品資訊